ХИМИЧЕСКОЕ ОСАЖДЕНИЕ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ

Термин
химическое осаждение из газовой фазы
Термин на английском
chemical vapour deposition
Синонимы
химическое осаждение из пара; chemical vapor deposition
Аббревиатуры
CVD
Связанные термины
физическое осаждение из газовой фазы, волокна, борные, волокна, карбидкремниевые, осаждение атомных слоев, плазменно-химическое осаждение из газовой фазы, химическое осаждение из паров металлорганических соединений, эпитаксия газофазная
Определение
метод получения тонких пленок и порошков при помощи высокотемпературных реакций разложения и/или взаимодействия газообразных прекурсоров на подложке (получение пленок) или в объеме реактора (получение порошков)
Описание

Существует множество разновидностей этого метода, отличающихся способом инициации химических реакций и условиями процесса (давление, способ транспортировки паров в область подложки и т.д.).Как правило, в качестве прекурсоров используются соединения, имеющее достаточно высокое давление паров при невысоких температурах (100 - 400оС; хлориды металлов, металлоорганические комплексные соединения). Необходимым условием получения высококачественных пленок этим методом является высокая точность контроля скорости газовых потоков и интенсивности испарения прекурсоров.


Метод химического осаждения из газовой фазы позволяет получать покрытия различной структуры (монокристаллические, эпитаксиальные, аморфные, поликристаллические) на поверхностях сложной формы, в том числе с высокой степенью кривизны. Метод химического осаждения из газовой фазы в условиях объемной конденсации весьма эффективен при получении слабоагрегированных нанопорошков различных соединений.

Авторы
  • Журавлева Наталья Геннадиевна
  • Шляхтин Олег Александрович, к.х.н.
Ссылки
  1. Chemical vapor deposition / Wikipedia URL: http://en.wikipedia.org/wiki/Chemical_vapor_deposition
  2. H. O. Pierson, Handbook of Chemical Vapor Deposition (CVD): Principles, Technology and Applications - NJ, 1992 - P. 235,
  3. Fundamentals of Chemical Vapor Deposition. http://www.timedomaincvd.com/CVD_Fundamentals/Fundamentals_of_CVD.html
Иллюстрации
Теги
Разделы
Химическое, термическое и электродуговое ocаждение из газовой фазы (в том числе CVD, EVD, MoCVD, PVD и аналоги)
(Источник: «Словарь основных нанотехнологических терминов РОСНАНО»)


Энциклопедический словарь нанотехнологий 

ХИМИЧЕСКОЕ ОСАЖДЕНИЕ ИЗ ПАРОВ МЕТАЛЛОРГАНИЧЕСКИХ СОЕДИНЕНИЙ →← ХИМИЧЕСКИЙ ИСТОЧНИК ТОКА

T: 0.102296685 M: 3 D: 3