ФОТОРЕЗИСТ

Термин
фоторезист
Термин на английском
Синонимы
Аббревиатуры
Связанные термины
литография, травление в литографии
Определение
свето- или рентгеночувствительный материал на полимерной основе, используемый для нанесения пленочного покрытия на подложку в литографическом процессе путем его облучения (экспонирования) через маску с проекциями элементов электронной схемы и последующего проявления (травления в растворителе) так, что изображение схемы переносится на подложку.
Описание

В зависимости от характера изменения структуры и свойств в результате облучения, фоторезисты делят на негативные и позитивные.Если в результате облучения пленка полимеризуется и теряет растворимость, то обработка растворителем (проявление) ведет к удалению только необлученных участков, и на подложке возникает негативное изображение маски. Соответствующие фоторезисты называются негативными. Если после облучения фоторезист становится растворимым, то при облучении через маску и последующем проявлении удаляются облученные участки, и на подложке возникает позитивное изображение маски. Такие фоторезисты называют позитивными. Позитивные фоторезисты позволяют более точно передавать мелкие геометрические детали изображения по сравнению с негативными. Позитивные фоторезисты изготовляют из феноло- или крезолоформальдегидной смолы с о-нафтохинондиазидом, негативные - из поливинилового спирта с солями хромовых кислот или циклизованного каучука с добавками, вызывающими “сшивание” макромолекул при облучении.

Авторы
  • Гусев Александр Иванович, д.ф.-м.н.
Ссылки
  1. А. И. Гусев. Наноматериалы, наноструктуры, нанотехнологии. Изд. 2-е, исправленное и до-полненное. Москва: Наука-Физматлит, 2007. 416 с.
Иллюстрации
Установка для нанесения фоторезиста

Установка для нанесения фоторезиста


Теги
Разделы
Оптическая литография
Управляемые методы формирования наноструктур
(Источник: «Словарь основных нанотехнологических терминов РОСНАНО»)


Энциклопедический словарь нанотехнологий 

ФОТОСИНТЕЗ →← ФОТОННЫЙ КРИСТАЛЛ

T: 0.126327729 M: 3 D: 3